Az Intel megkezdte az átállást az új, 45 nanométeres gyártástechnológiára.

Az alacsonyabb csíkszélességű technológia bevezetésével öt új Core 2 Duo, Core 2 Quad és Xeon lát napvilágot a Penryn kódnevű maggal készülő, 15 változatot felölelő termékvonalból. A Penryn gyakorlatilag nem más, mint az eddigi, 65 nanométeres technológiával készült Merom, Conroe, Woodcrest magok csökkentett méretű, viszonylag kis mértékben módosított változata – tehát a 45 nanométeres négymagos processzor is két külön szilíciumlapka „közös fedél alatt” – a monolitikus négymagos processzor majd egy következő generációval érkezik. Az Intel a megnövelt órajelen kívül 50 új SSE4 utasítást és megnövelt, akár 12 megabájtos gyorsítótárat is ígér a csökkentett csíkszélességgel készülő újdonságokban. A kétmagos változatok több mint 400 millió, míg a négymagosak több mint 800 millió tranzisztort tartalmaznak majd. A kisebb csíkszélességű technológiának a már jól ismert előnyei vannak: az újdonságok kevésbé melegszenek, mint elődeik, kevesebbet is fogyasztanak, bár a megemelt órajel miatt a hőjellemzők és a fogyasztás hasonló lesz a jelenlegi, 65 nanométeres csíkszélességű változatokéhoz.

Az Intel kutatóinak legfontosabb feladata az volt, hogy a teljesítmény növelése mellett megoldják a tranzisztorok szivárgását. Ehhez a szilíciumdioxid kapu dielektrikumot olyan, hafnium alapú anyagra cserélték, ami a szivárgást a több mint négy évtizede használt szilícium-dioxidhoz képest a tizedénél is kevesebbre csökkentette. „Amióta egyre több tranzisztor zsúfolható ugyanakkora darab szilíciumra, az iparág kutatásainak célja az áramszivárgás csökkentése” – mondta Mark Bohr, az Intel vezető kutatója. Az új gyártástechnológiával az Intel óriási előnyre tehet szert az AMD-vel szemben, és ismét egyértelművé teheti vezető pozícióját a lapkagyártásban.